14.02.2012

Kantenbruchkontrolle und Messen

100% Qualitätskontrolle durch hoch genaues, robustes und schnelles Messen

Abbildung 1

Abbildung 2

Abbildung 3

Abb. 1: Kantenbruch auf Wafer

Abb. 2: Kamera mit telezentrischem Objektiv, Durchlicht (Backlight) und Wafer auf einem Förderband

Durch eine auf die Waferform definierte Beleuchtung ist die optimale Ausleuchtung der Kantenform zu gewährleisten. Telezentrische Messsysteme erlauben höchste Genauigkeiten in Bezug auf die Kantenbruchkontrolle (bis 60 µm x 60 µm) und kombinierte Messaufgaben. Sie sind durch ihr spezielles Abbildungsprinzip robust gegenüber Verschiebungen und Höhenänderung.

Weitere Infos finden Sie bei unserem Partner Buchanan Systems.